半導体クリーンルーム施工の専門性が問われる理由
半導体製造における微細化の進展により、クリーンルームに求められる清浄度基準は年々厳格化しています。最先端の半導体工場ではクラス1～100という極めて高い清浄度レベルが要求され、1立方フィート当たり0.1μm以上の粒子を数個以下に抑える必要があります。
大手ゼネコンが建築工事全体を請け負う中でも、クリーンルーム本体の設計施工は専門技術を持つ企業への発注が一般的です。空調システム、FFU配置、リターンダクト設計、温湿度制御、静電気対策など、半導体製造特有の要求仕様を理解した施工会社の選定が、生産ラインの品質と稼働率を左右します。
国内市場の動向
TSMCの熊本工場建設をはじめ、Rapidusの次世代半導体量産計画など、日本国内では2025年以降も大規模な半導体工場建設プロジェクトが続いています。政府の国内半導体生産強化政策により、既存工場のリノベーションやライン増設案件も増加傾向にあり、クリーンルーム施工市場は拡大を続けています。
選定時の重要ポイント
施工会社選定では、半導体グレードの清浄度達成実績、300mm/450mmウェーハ対応経験、最新のミニエンバイロメント技術への対応力、工期管理能力、そして稼働後のメンテナンス体制が重要な評価基準となります。特定建設業許可の保有、ISO認証取得状況、BIM活用によるシミュレーション能力なども、プロジェクト成功を左右する要素です。